Standard

Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания. / Барабан, А.П.; Селиванов, А.А.; Дмитриев, В.А.; Дрозд, А.В.; Дрозд, В.Е.

в: ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ", Том 45, № 6, 26.03.2019, стр. 13-15.

Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование

Harvard

Барабан, АП, Селиванов, АА, Дмитриев, ВА, Дрозд, АВ & Дрозд, ВЕ 2019, 'Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания', ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ", Том. 45, № 6, стр. 13-15. <http://elibrary.ru/item.asp?id=37481360>

APA

Барабан, А. П., Селиванов, А. А., Дмитриев, В. А., Дрозд, А. В., & Дрозд, В. Е. (2019). Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания. ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ", 45(6), 13-15. http://elibrary.ru/item.asp?id=37481360

Vancouver

Барабан АП, Селиванов АА, Дмитриев ВА, Дрозд АВ, Дрозд ВЕ. Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания. ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ". 2019 Март 26;45(6):13-15.

Author

Барабан, А.П. ; Селиванов, А.А. ; Дмитриев, В.А. ; Дрозд, А.В. ; Дрозд, В.Е. / Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания. в: ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ". 2019 ; Том 45, № 6. стр. 13-15.

BibTeX

@article{1c3f964c38a043b3a9fa6a1bdc371f06,
title = "Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания",
abstract = "Использование метода локальной катодолюминесценции структур Si-TiO2 и Si-SiO2-TiO2 способствует ответу на вопрос о природе центров, влияющих на работу мемристоров. Применение этого метода позволило установить, что электроформовка приводит к появлению во внешней части слоя TiO2, отличающегося высокой концентрацией дефектов, люминесценции в спектральном диапазоне 250-400 nm. Это позволяет сделать заключение о формировании резкой межфазовой границы между диэлектрическими слоями, получить качественную оценку коэффициента поглощения слоя TiO2 и оценить ширину его запрещенной зоны (~ 3.3 eV для данной технологии формирования окисного слоя).",
author = "А.П. Барабан and А.А. Селиванов and В.А. Дмитриев and А.В. Дрозд and В.Е. Дрозд",
year = "2019",
month = mar,
day = "26",
language = "русский",
volume = "45",
pages = "13--15",
journal = "ПИСЬМА В {"}ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ{"}",
issn = "0320-0116",
publisher = "ФТИ им.Иоффе",
number = "6",

}

RIS

TY - JOUR

T1 - Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания

AU - Барабан, А.П.

AU - Селиванов, А.А.

AU - Дмитриев, В.А.

AU - Дрозд, А.В.

AU - Дрозд, В.Е.

PY - 2019/3/26

Y1 - 2019/3/26

N2 - Использование метода локальной катодолюминесценции структур Si-TiO2 и Si-SiO2-TiO2 способствует ответу на вопрос о природе центров, влияющих на работу мемристоров. Применение этого метода позволило установить, что электроформовка приводит к появлению во внешней части слоя TiO2, отличающегося высокой концентрацией дефектов, люминесценции в спектральном диапазоне 250-400 nm. Это позволяет сделать заключение о формировании резкой межфазовой границы между диэлектрическими слоями, получить качественную оценку коэффициента поглощения слоя TiO2 и оценить ширину его запрещенной зоны (~ 3.3 eV для данной технологии формирования окисного слоя).

AB - Использование метода локальной катодолюминесценции структур Si-TiO2 и Si-SiO2-TiO2 способствует ответу на вопрос о природе центров, влияющих на работу мемристоров. Применение этого метода позволило установить, что электроформовка приводит к появлению во внешней части слоя TiO2, отличающегося высокой концентрацией дефектов, люминесценции в спектральном диапазоне 250-400 nm. Это позволяет сделать заключение о формировании резкой межфазовой границы между диэлектрическими слоями, получить качественную оценку коэффициента поглощения слоя TiO2 и оценить ширину его запрещенной зоны (~ 3.3 eV для данной технологии формирования окисного слоя).

UR - http://journals.ioffe.ru/articles/47491

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=37481360

M3 - статья

VL - 45

SP - 13

EP - 15

JO - ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ"

JF - ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ"

SN - 0320-0116

IS - 6

ER -

ID: 41021419