Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания. / Барабан, А.П.; Селиванов, А.А.; Дмитриев, В.А.; Дрозд, А.В.; Дрозд, В.Е.
In: ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ", Vol. 45, No. 6, 26.03.2019, p. 13-15.Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
}
TY - JOUR
T1 - Катодолюминесценция слоев TiO2, полученных методом молекулярного наслаивания
AU - Барабан, А.П.
AU - Селиванов, А.А.
AU - Дмитриев, В.А.
AU - Дрозд, А.В.
AU - Дрозд, В.Е.
PY - 2019/3/26
Y1 - 2019/3/26
N2 - Использование метода локальной катодолюминесценции структур Si-TiO2 и Si-SiO2-TiO2 способствует ответу на вопрос о природе центров, влияющих на работу мемристоров. Применение этого метода позволило установить, что электроформовка приводит к появлению во внешней части слоя TiO2, отличающегося высокой концентрацией дефектов, люминесценции в спектральном диапазоне 250-400 nm. Это позволяет сделать заключение о формировании резкой межфазовой границы между диэлектрическими слоями, получить качественную оценку коэффициента поглощения слоя TiO2 и оценить ширину его запрещенной зоны (~ 3.3 eV для данной технологии формирования окисного слоя).
AB - Использование метода локальной катодолюминесценции структур Si-TiO2 и Si-SiO2-TiO2 способствует ответу на вопрос о природе центров, влияющих на работу мемристоров. Применение этого метода позволило установить, что электроформовка приводит к появлению во внешней части слоя TiO2, отличающегося высокой концентрацией дефектов, люминесценции в спектральном диапазоне 250-400 nm. Это позволяет сделать заключение о формировании резкой межфазовой границы между диэлектрическими слоями, получить качественную оценку коэффициента поглощения слоя TiO2 и оценить ширину его запрещенной зоны (~ 3.3 eV для данной технологии формирования окисного слоя).
UR - http://journals.ioffe.ru/articles/47491
UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=37481360
M3 - статья
VL - 45
SP - 13
EP - 15
JO - ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ"
JF - ПИСЬМА В "ЖУРНАЛ ТЕХНИЧЕСКОЙ ФИЗИКИ"
SN - 0320-0116
IS - 6
ER -
ID: 41021419