В рамках данного доклада мы представляем результаты работы по изучению микроструктуры границ и слоев в W/Be и Cr/Be многослойных зеркалах для диапазонов жесткого и мягкого рентгеновского излучения. В ходе исследования применялись методы рентгеновской рефлектометрии, диффузного и комбинационного рассеяния и фотоэлектронной спектроскопии. Особое внимание уделено изучению параметров структур при малых (субнанометровых) толщинах индивидуальных пленок.