Результаты

  1. Новый метод релаксации упругих напряжений при росте гетероэпитаксиальных пленок

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  2. Рост пленок SiC, AlN и GaN на кремниевых изделиях произвольной геометрии для микроэлектромеханических применений

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

  3. Особенности зарождения и роста нитевидных нанокристаллов InGaN на подложках SiC/Si методом хлорид-гидридной эпитаксии

    Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьяРецензирование

Просмотреть все (11) »

ID: 70430127