Standard

Особенности слоев SiO2, синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания. / Дмитриев, Валентин Александрович; Барабан, Александр Петрович; Денисов, Евгений Александрович; Дрозд, Виктор Евгеньевич; Дрозд, Арсений Викторович; Селиванов, Андрей Александрович; Сейсян, Р П.

In: ФИЗИКА И ТЕХНИКА ПОЛУПРОВОДНИКОВ, Vol. 54, No. 4, 20.03.2020, p. 427-431.

Research output: Contribution to journal › Article › peer-review

Harvard

Дмитриев, ВА, Барабан, АП, Денисов, ЕА, Дрозд, ВЕ, Дрозд, АВ, Селиванов, АА & Сейсян, РП 2020, 'Особенности слоев SiO2, синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания', ФИЗИКА И ТЕХНИКА ПОЛУПРОВОДНИКОВ, vol. 54, no. 4, pp. 427-431. https://doi.org/10.21883/FTP.2020.04.49153.9312

APA

Дмитриев, В. А., Барабан, А. П., Денисов, Е. А., Дрозд, В. Е., Дрозд, А. В., Селиванов, А. А., & Сейсян, Р. П. (2020). Особенности слоев SiO2, синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания. ФИЗИКА И ТЕХНИКА ПОЛУПРОВОДНИКОВ, 54(4), 427-431. https://doi.org/10.21883/FTP.2020.04.49153.9312

Vancouver

Дмитриев ВА, Барабан АП, Денисов ЕА, Дрозд ВЕ, Дрозд АВ, Селиванов АА et al. Особенности слоев SiO2, синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания. ФИЗИКА И ТЕХНИКА ПОЛУПРОВОДНИКОВ. 2020 Mar 20;54(4):427-431. https://doi.org/10.21883/FTP.2020.04.49153.9312

Author

Дмитриев, Валентин Александрович ; Барабан, Александр Петрович ; Денисов, Евгений Александрович ; Дрозд, Виктор Евгеньевич ; Дрозд, Арсений Викторович ; Селиванов, Андрей Александрович ; Сейсян, Р П. / Особенности слоев SiO2, синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания. In: ФИЗИКА И ТЕХНИКА ПОЛУПРОВОДНИКОВ. 2020 ; Vol. 54, No. 4. pp. 427-431.

BibTeX

@article{1d35eaa570a44826bea8414c2db6b6cf,
title = "Особенности слоев SiO2, синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания",
abstract = "Проведено сравнение характеристик слоев оксида кремния, полученных различными технологическими способами. Показано, что каталитический способ получения слоев окиси кремния методом молекулярного наслаивания имеет ряд преимуществ. Главными из них являются низкая температура роста, качественная граница раздела с кремниевой подложкой и высокая скорость роста пленок. Исследования методом катодолюминесценции позволили оценить структурное качество слоев оксида кремния, полученных методом молекулярного наслаивания, и подтвердили представления о его возможностях для получения качественных пленок окиси кремния для широкого практического применения. Ключевые слова: молекулярное наслаивание, низкотемпературный синтез, оксид кремния, каталитический синтез, катодолюминесценция, спектральное распределение.",
keywords = "catalytic synthesis, cathodoluminescence, Low-temperature synthesis, Molecular layering, silicon oxide, spectral distribution, catalytic synthesis, cathodoluminescence, Low-temperature synthesis, Molecular layering, silicon oxide, spectral distribution",
author = "Дмитриев, {Валентин Александрович} and Барабан, {Александр Петрович} and Денисов, {Евгений Александрович} and Дрозд, {Виктор Евгеньевич} and Дрозд, {Арсений Викторович} and Селиванов, {Андрей Александрович} and Сейсян, {Р П}",
year = "2020",
month = mar,
day = "20",
doi = "10.21883/FTP.2020.04.49153.9312",
language = "русский",
volume = "54",
pages = "427--431",
journal = "ФИЗИКА И ТЕХНИКА ПОЛУПРОВОДНИКОВ",
issn = "0015-3222",
publisher = "Издательство {"}Наука{"}",
number = "4",

}

RIS

TY - JOUR

T1 - Особенности слоев SiO2, синтезированных на кремнии методом молекулярного наслаивания

AU - Дмитриев, Валентин Александрович

AU - Барабан, Александр Петрович

AU - Денисов, Евгений Александрович

AU - Дрозд, Виктор Евгеньевич

AU - Дрозд, Арсений Викторович

AU - Селиванов, Андрей Александрович

AU - Сейсян, Р П

PY - 2020/3/20

Y1 - 2020/3/20

N2 - Проведено сравнение характеристик слоев оксида кремния, полученных различными технологическими способами. Показано, что каталитический способ получения слоев окиси кремния методом молекулярного наслаивания имеет ряд преимуществ. Главными из них являются низкая температура роста, качественная граница раздела с кремниевой подложкой и высокая скорость роста пленок. Исследования методом катодолюминесценции позволили оценить структурное качество слоев оксида кремния, полученных методом молекулярного наслаивания, и подтвердили представления о его возможностях для получения качественных пленок окиси кремния для широкого практического применения. Ключевые слова: молекулярное наслаивание, низкотемпературный синтез, оксид кремния, каталитический синтез, катодолюминесценция, спектральное распределение.

AB - Проведено сравнение характеристик слоев оксида кремния, полученных различными технологическими способами. Показано, что каталитический способ получения слоев окиси кремния методом молекулярного наслаивания имеет ряд преимуществ. Главными из них являются низкая температура роста, качественная граница раздела с кремниевой подложкой и высокая скорость роста пленок. Исследования методом катодолюминесценции позволили оценить структурное качество слоев оксида кремния, полученных методом молекулярного наслаивания, и подтвердили представления о его возможностях для получения качественных пленок окиси кремния для широкого практического применения. Ключевые слова: молекулярное наслаивание, низкотемпературный синтез, оксид кремния, каталитический синтез, катодолюминесценция, спектральное распределение.

KW - catalytic synthesis

KW - cathodoluminescence

KW - Low-temperature synthesis

KW - Molecular layering

KW - silicon oxide

KW - spectral distribution

KW - catalytic synthesis

KW - cathodoluminescence

KW - Low-temperature synthesis

KW - Molecular layering

KW - silicon oxide

KW - spectral distribution

UR - https://www.mendeley.com/catalogue/20fc0c97-4e4c-32f9-9ba5-2d046a2b1fe7/

U2 - 10.21883/FTP.2020.04.49153.9312

DO - 10.21883/FTP.2020.04.49153.9312

M3 - статья

VL - 54

SP - 427

EP - 431

JO - ФИЗИКА И ТЕХНИКА ПОЛУПРОВОДНИКОВ

JF - ФИЗИКА И ТЕХНИКА ПОЛУПРОВОДНИКОВ

SN - 0015-3222

IS - 4

ER -

ID: 53134970