Standard

Влияние формы возущения на устойчивость плоской поверхности пленочного покрытия при диффузионных процессах. / Костырко, С.А.

In: ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. СЕРИЯ 1: МАТЕМАТИКА, МЕХАНИКА, АСТРОНОМИЯ, No. 3, 2011, p. 101-111.

Research output: Contribution to journal › Article › peer-review

Harvard

Костырко, СА 2011, 'Влияние формы возущения на устойчивость плоской поверхности пленочного покрытия при диффузионных процессах', ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. СЕРИЯ 1: МАТЕМАТИКА, МЕХАНИКА, АСТРОНОМИЯ, no. 3, pp. 101-111. <http://elibrary.ru/item.asp?id=16755066>

APA

Костырко, С. А. (2011). Влияние формы возущения на устойчивость плоской поверхности пленочного покрытия при диффузионных процессах. ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. СЕРИЯ 1: МАТЕМАТИКА, МЕХАНИКА, АСТРОНОМИЯ, (3), 101-111. http://elibrary.ru/item.asp?id=16755066

Vancouver

Костырко СА. Влияние формы возущения на устойчивость плоской поверхности пленочного покрытия при диффузионных процессах. ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. СЕРИЯ 1: МАТЕМАТИКА, МЕХАНИКА, АСТРОНОМИЯ. 2011;(3):101-111.

Author

Костырко, С.А. / Влияние формы возущения на устойчивость плоской поверхности пленочного покрытия при диффузионных процессах. In: ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. СЕРИЯ 1: МАТЕМАТИКА, МЕХАНИКА, АСТРОНОМИЯ. 2011 ; No. 3. pp. 101-111.

BibTeX

@article{a1838c1924ce4782a02b42c3c265f284,
title = "Влияние формы возущения на устойчивость плоской поверхности пленочного покрытия при диффузионных процессах",
abstract = "Рассмотрена двумерная модель твердого тела с тонким пленочным покрытием в виде упругого композита полосаполуплоскость, находящегося в условиях плоской деформации. Предполагается, что в полосе действуют продольные напряжения. Малое возмущение плос- кой формы поверхности пленки описывается произвольной симметричной периодической функцией. Изменение химического потенциала вдоль искривленной поверхности приводит к массопереносу как вглубь материала, так и вдоль рассматриваемой поверхности. В каче- стве основного соотношения получена зависимость амплитуды искривленной поверхности от времени. При этом критерий устойчивости формулируется следующим образом: если ампли- туда возмущения уменьшается со временем, то плоская форма поверхности пленки счита- ется устойчивой. Исследовано влияние жесткости подложки, толщины пленки, продольных усилий, а также формы возмущения на критическое значение длины волны.",
keywords = "тонкие пленки, устойчивость, диффузия",
author = "С.А. Костырко",
year = "2011",
language = "русский",
pages = "101--111",
journal = "ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. МАТЕМАТИКА. МЕХАНИКА. АСТРОНОМИЯ",
issn = "1025-3106",
publisher = "Издательство Санкт-Петербургского университета",
number = "3",

}

RIS

TY - JOUR

T1 - Влияние формы возущения на устойчивость плоской поверхности пленочного покрытия при диффузионных процессах

AU - Костырко, С.А.

PY - 2011

Y1 - 2011

N2 - Рассмотрена двумерная модель твердого тела с тонким пленочным покрытием в виде упругого композита полосаполуплоскость, находящегося в условиях плоской деформации. Предполагается, что в полосе действуют продольные напряжения. Малое возмущение плос- кой формы поверхности пленки описывается произвольной симметричной периодической функцией. Изменение химического потенциала вдоль искривленной поверхности приводит к массопереносу как вглубь материала, так и вдоль рассматриваемой поверхности. В каче- стве основного соотношения получена зависимость амплитуды искривленной поверхности от времени. При этом критерий устойчивости формулируется следующим образом: если ампли- туда возмущения уменьшается со временем, то плоская форма поверхности пленки счита- ется устойчивой. Исследовано влияние жесткости подложки, толщины пленки, продольных усилий, а также формы возмущения на критическое значение длины волны.

AB - Рассмотрена двумерная модель твердого тела с тонким пленочным покрытием в виде упругого композита полосаполуплоскость, находящегося в условиях плоской деформации. Предполагается, что в полосе действуют продольные напряжения. Малое возмущение плос- кой формы поверхности пленки описывается произвольной симметричной периодической функцией. Изменение химического потенциала вдоль искривленной поверхности приводит к массопереносу как вглубь материала, так и вдоль рассматриваемой поверхности. В каче- стве основного соотношения получена зависимость амплитуды искривленной поверхности от времени. При этом критерий устойчивости формулируется следующим образом: если ампли- туда возмущения уменьшается со временем, то плоская форма поверхности пленки счита- ется устойчивой. Исследовано влияние жесткости подложки, толщины пленки, продольных усилий, а также формы возмущения на критическое значение длины волны.

KW - тонкие пленки

KW - устойчивость

KW - диффузия

M3 - статья

SP - 101

EP - 111

JO - ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. МАТЕМАТИКА. МЕХАНИКА. АСТРОНОМИЯ

JF - ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. МАТЕМАТИКА. МЕХАНИКА. АСТРОНОМИЯ

SN - 1025-3106

IS - 3

ER -

ID: 5099989