Методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии анализируется формирование промежуточных соединений, образующихся в результате введения барьерных слоев на межфазовых границах в многослойных структурах Mo/Si и Mo/Be. Установлено, что функциональность диффузионного барьера определяется стабильностью соединений, образующихся в результате
его введения.