Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование
ПРОСТОЙ МЕТОД КОНТРОЛЯ ОДНОРОДНОСТИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУР Ovsyankin V. V. and Petrov V. V. A simple method for monitoring uniformity of epitaxial semiconductor structures. / Козлов, Глеб Геннадьевич; Капитонов, Юрий Владимирович; Долгих, Юрий Кузьмич; Ефимов, Юрий Петрович; Елисеев, Сергей Александрович; Овсянкин, Владимир Владимир; Петров, Владимир Владимирович.
в: ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. СЕРИЯ 4: ФИЗИКА, ХИМИЯ, № 1, 2009, стр. 127-130.Результаты исследований: Научные публикации в периодических изданиях › статья › Рецензирование
}
TY - JOUR
T1 - ПРОСТОЙ МЕТОД КОНТРОЛЯ ОДНОРОДНОСТИ ЭПИТАКСИАЛЬНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУР Ovsyankin V. V. and Petrov V. V. A simple method for monitoring uniformity of epitaxial semiconductor structures
AU - Козлов, Глеб Геннадьевич
AU - Капитонов, Юрий Владимирович
AU - Долгих, Юрий Кузьмич
AU - Ефимов, Юрий Петрович
AU - Елисеев, Сергей Александрович
AU - Овсянкин, Владимир Владимир
AU - Петров, Владимир Владимирович
PY - 2009
Y1 - 2009
N2 - Работа выполнена при поддержке International Science and Technology Center (проект № 2679). Описан простой метод визуализации неоднородности планарных порлупроводниковых МПЭ-структур на масштабах ~ 0, 1 мм. Метод основан на измерении распределения фото-эдс. при локальном освещении, не требует дорогостоящего оборудованияи отличается универсальностью. Библиогр. 2 назв. Ил. 2.A simple method for visualization of nonuniformity of planar MBE structure is proposed. The method is based on measuring the relief of the photo-EMF. The method can be applied to a wide variety of semiconductor structures and does not require any expensive equipment.
AB - Работа выполнена при поддержке International Science and Technology Center (проект № 2679). Описан простой метод визуализации неоднородности планарных порлупроводниковых МПЭ-структур на масштабах ~ 0, 1 мм. Метод основан на измерении распределения фото-эдс. при локальном освещении, не требует дорогостоящего оборудованияи отличается универсальностью. Библиогр. 2 назв. Ил. 2.A simple method for visualization of nonuniformity of planar MBE structure is proposed. The method is based on measuring the relief of the photo-EMF. The method can be applied to a wide variety of semiconductor structures and does not require any expensive equipment.
M3 - статья
SP - 127
EP - 130
JO - ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. ФИЗИКА И ХИМИЯ
JF - ВЕСТНИК САНКТ-ПЕТЕРБУРГСКОГО УНИВЕРСИТЕТА. ФИЗИКА И ХИМИЯ
SN - 1024-8579
IS - 1
ER -
ID: 5236997