DOI

Язык оригиналаанглийский
Название основной публикацииHigh –k Gate Dielectrics for CMOS Technology / Ed. by Gang He, Zhaoqi Sun
ИздательWiley-Blackwell
Страницы558, 225-271
ISBN (печатное издание)978-3-527-33032-4
DOI
СостояниеОпубликовано - 2012

ID: 4571372