Результаты исследований: Публикации в книгах, отчётах, сборниках, трудах конференций › глава/раздел
Язык оригинала | английский |
---|---|
Название основной публикации | High –k Gate Dielectrics for CMOS Technology / Ed. by Gang He, Zhaoqi Sun |
Издатель | Wiley-Blackwell |
Страницы | 558, 225-271 |
ISBN (печатное издание) | 978-3-527-33032-4 |
DOI | |
Состояние | Опубликовано - 2012 |
ID: 4571372