Представлены результаты исследования структурных и фотоэлектрических свойств тонкопленочной структуры ZnО-LiTaO3. Приведены результаты рентгеноструктурного анализа и данных атомно-силовой микроскопии для пленок оксида цинка, синтезированных на подложке из монокристаллического танталата лития и на подложке из полированного кварца КУ-1. Приведена спектральная зависимость фотоэлектрического тока тонкопленочной структуры ZnО-LiTaO3 и структуры ZnO-кварц в ультрафиолетовом и видимом диапазонах спектра. Представлены результаты восстановления методом регуляризации Тихонова-Лаврентьева энергетического спектра оптически активных дефектов, присутствующих в структуре ZnО-LiTaO3. Ключевые слова: тонкие пленки, оксид цинка, лазерная абляция, сегнетоэлектрические материалы, фотопроводимость, рентгеноструктурный анализ, атомно-силовая микроскопия, регуляризация Тихонова-Лаврентьева.