В рамках оптимизации плазменных технологий получения сверхчистых материалов с применением плазмотронов обоснована зависимость предельно допустимой эрозии их электродов от рабочего напряжения. Эти результаты позволяют говорить о высоковольтных плазмотронах, как о приоритетных для реализации данной технологии, так как за счет меньшей силы тока снижается интегральная эрозия электродов при фиксированной мощности. Показано, что относительная концентрация примесей в получаемом веществе не зависит от силы тока плазмотрона. В качестве примера рассмотрено производство чистого белого корунда, применяемого для медицинских целей, в микросхемах или в оптических приборах, где важна высокая степень его чистоты. Требуемая чистота при производстве корунда плазменным способом достигается за счет использования в качестве сырья глинозема марки Г000 с дополнительной очисткой и применения высоковольтного плазмотрона.