Research output: Chapter in Book/Report/Conference proceeding › Conference abstracts › Research › peer-review
Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be. / Сахоненков, Сергей Сергеевич; Филатова, Елена Олеговна.
XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника". Vol. 1 Нижний Новгород : Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, 2022. p. 602-603.Research output: Chapter in Book/Report/Conference proceeding › Conference abstracts › Research › peer-review
}
TY - CHAP
T1 - Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be
AU - Сахоненков, Сергей Сергеевич
AU - Филатова, Елена Олеговна
PY - 2022
Y1 - 2022
N2 - В результате проведенных исследований обнаружено полное перемешивание слоев вольфрама и бериллия в многослойной системе W/Be с периодом 2.5 нм, что привело к формированию двух бериллидов, с большим и малым отношением Be:W. В случае структуры с более протяженным периодом (3.2 нм), помимо бериллидов, также обнаружено присутствие элементного бериллия. Отжиг систем при температуре 300˚C в течение 20 часов в атмосфере аргона привел к существенному перераспределению сформированных соединений: увеличению бериллида с малым отношением Be:W, относительно остальных соединений. Установлено, что в системах с тонкими барьерными слоями B4C или Si присутствуют соединения BeCx, WBx и WSix. В случае многослойных структур, в которых барьерный слой наносился на слой бериллия, отжиг не приводит к существенному перераспределению состояний, в то время как для систем с противоположным порядком напыления барьерных слоев (на вольфрам) произошло заметное увеличение бериллида с малым отношенийем Be:W, но при этом в меньшей степени, в сравнении с исходными системами
AB - В результате проведенных исследований обнаружено полное перемешивание слоев вольфрама и бериллия в многослойной системе W/Be с периодом 2.5 нм, что привело к формированию двух бериллидов, с большим и малым отношением Be:W. В случае структуры с более протяженным периодом (3.2 нм), помимо бериллидов, также обнаружено присутствие элементного бериллия. Отжиг систем при температуре 300˚C в течение 20 часов в атмосфере аргона привел к существенному перераспределению сформированных соединений: увеличению бериллида с малым отношением Be:W, относительно остальных соединений. Установлено, что в системах с тонкими барьерными слоями B4C или Si присутствуют соединения BeCx, WBx и WSix. В случае многослойных структур, в которых барьерный слой наносился на слой бериллия, отжиг не приводит к существенному перераспределению состояний, в то время как для систем с противоположным порядком напыления барьерных слоев (на вольфрам) произошло заметное увеличение бериллида с малым отношенийем Be:W, но при этом в меньшей степени, в сравнении с исходными системами
M3 - тезисы в сборнике материалов конференции
SN - 978-5-91326-720-7
VL - 1
SP - 602
EP - 603
BT - XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника"
PB - Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского
CY - Нижний Новгород
T2 - XXVI международный симпозиум "Нанофизика и Наноэлектроника"
Y2 - 14 March 2022 through 17 March 2022
ER -
ID: 98920964