Standard

Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be. / Сахоненков, Сергей Сергеевич; Филатова, Елена Олеговна.

XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника". Vol. 1 Нижний Новгород : Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, 2022. p. 602-603.

Research output: Chapter in Book/Report/Conference proceedingConference abstractsResearchpeer-review

Harvard

Сахоненков, СС & Филатова, ЕО 2022, Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be. in XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника". vol. 1, Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, pp. 602-603, XXVI международный симпозиум "Нанофизика и Наноэлектроника", Нижний Новгород, Russian Federation, 14/03/22.

APA

Сахоненков, С. С., & Филатова, Е. О. (2022). Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be. In XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника" (Vol. 1, pp. 602-603). Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского.

Vancouver

Сахоненков СС, Филатова ЕО. Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be. In XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника". Vol. 1. Нижний Новгород: Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского. 2022. p. 602-603

Author

Сахоненков, Сергей Сергеевич ; Филатова, Елена Олеговна. / Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be. XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника". Vol. 1 Нижний Новгород : Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, 2022. pp. 602-603

BibTeX

@inbook{96311040032a4d9abfe4aa8a2a7e1aee,
title = "Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be",
abstract = "В результате проведенных исследований обнаружено полное перемешивание слоев вольфрама и бериллия в многослойной системе W/Be с периодом 2.5 нм, что привело к формированию двух бериллидов, с большим и малым отношением Be:W. В случае структуры с более протяженным периодом (3.2 нм), помимо бериллидов, также обнаружено присутствие элементного бериллия. Отжиг систем при температуре 300˚C в течение 20 часов в атмосфере аргона привел к существенному перераспределению сформированных соединений: увеличению бериллида с малым отношением Be:W, относительно остальных соединений. Установлено, что в системах с тонкими барьерными слоями B4C или Si присутствуют соединения BeCx, WBx и WSix. В случае многослойных структур, в которых барьерный слой наносился на слой бериллия, отжиг не приводит к существенному перераспределению состояний, в то время как для систем с противоположным порядком напыления барьерных слоев (на вольфрам) произошло заметное увеличение бериллида с малым отношенийем Be:W, но при этом в меньшей степени, в сравнении с исходными системами",
author = "Сахоненков, {Сергей Сергеевич} and Филатова, {Елена Олеговна}",
year = "2022",
language = "русский",
isbn = "978-5-91326-720-7",
volume = "1",
pages = "602--603",
booktitle = "XXVI Международный симпозиум {"}Нанофизика и наноэлектроника{"}",
publisher = "Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского",
address = "Российская Федерация",
note = "XXVI международный симпозиум {"}Нанофизика и Наноэлектроника{"} ; Conference date: 14-03-2022 Through 17-03-2022",
url = "https://nanosymp.ru/",

}

RIS

TY - CHAP

T1 - Влияние материала барьерного слоя на стабильность многослойных структур W/Be

AU - Сахоненков, Сергей Сергеевич

AU - Филатова, Елена Олеговна

PY - 2022

Y1 - 2022

N2 - В результате проведенных исследований обнаружено полное перемешивание слоев вольфрама и бериллия в многослойной системе W/Be с периодом 2.5 нм, что привело к формированию двух бериллидов, с большим и малым отношением Be:W. В случае структуры с более протяженным периодом (3.2 нм), помимо бериллидов, также обнаружено присутствие элементного бериллия. Отжиг систем при температуре 300˚C в течение 20 часов в атмосфере аргона привел к существенному перераспределению сформированных соединений: увеличению бериллида с малым отношением Be:W, относительно остальных соединений. Установлено, что в системах с тонкими барьерными слоями B4C или Si присутствуют соединения BeCx, WBx и WSix. В случае многослойных структур, в которых барьерный слой наносился на слой бериллия, отжиг не приводит к существенному перераспределению состояний, в то время как для систем с противоположным порядком напыления барьерных слоев (на вольфрам) произошло заметное увеличение бериллида с малым отношенийем Be:W, но при этом в меньшей степени, в сравнении с исходными системами

AB - В результате проведенных исследований обнаружено полное перемешивание слоев вольфрама и бериллия в многослойной системе W/Be с периодом 2.5 нм, что привело к формированию двух бериллидов, с большим и малым отношением Be:W. В случае структуры с более протяженным периодом (3.2 нм), помимо бериллидов, также обнаружено присутствие элементного бериллия. Отжиг систем при температуре 300˚C в течение 20 часов в атмосфере аргона привел к существенному перераспределению сформированных соединений: увеличению бериллида с малым отношением Be:W, относительно остальных соединений. Установлено, что в системах с тонкими барьерными слоями B4C или Si присутствуют соединения BeCx, WBx и WSix. В случае многослойных структур, в которых барьерный слой наносился на слой бериллия, отжиг не приводит к существенному перераспределению состояний, в то время как для систем с противоположным порядком напыления барьерных слоев (на вольфрам) произошло заметное увеличение бериллида с малым отношенийем Be:W, но при этом в меньшей степени, в сравнении с исходными системами

M3 - тезисы в сборнике материалов конференции

SN - 978-5-91326-720-7

VL - 1

SP - 602

EP - 603

BT - XXVI Международный симпозиум "Нанофизика и наноэлектроника"

PB - Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского

CY - Нижний Новгород

T2 - XXVI международный симпозиум "Нанофизика и Наноэлектроника"

Y2 - 14 March 2022 through 17 March 2022

ER -

ID: 98920964