Standard

Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал. / Гайсин, Айдар Уралович; Сахоненков, Сергей Сергеевич; Касатиков, Сергей Алексеевич; Конашук, Алексей Сергеевич; Плешков, Роман Сергеевич; Чхало, Николай Иванович; Филатова, Елена Олеговна.

Нанофизика и наноэлектроника : Труды XXIV Международного симпозиума. В 2 т.. Vol. 2 Нижний Новгород : Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, 2020. p. 851-852.

Research output: Chapter in Book/Report/Conference proceeding › Conference contribution › Research › peer-review

Harvard

Гайсин, АУ, Сахоненков, СС, Касатиков, СА, Конашук, АС, Плешков, РС, Чхало, НИ & Филатова, ЕО 2020, Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал. in Нанофизика и наноэлектроника : Труды XXIV Международного симпозиума. В 2 т.. vol. 2, Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, pp. 851-852, XXIV Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника», Нижний Новгород, Russian Federation, 10/03/20. <https://nanosymp.ru/ru/archive>

APA

Гайсин, А. У., Сахоненков, С. С., Касатиков, С. А., Конашук, А. С., Плешков, Р. С., Чхало, Н. И., & Филатова, Е. О. (2020). Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал. In Нанофизика и наноэлектроника : Труды XXIV Международного симпозиума. В 2 т. (Vol. 2, pp. 851-852). Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского. https://nanosymp.ru/ru/archive

Vancouver

Гайсин АУ, Сахоненков СС, Касатиков СА, Конашук АС, Плешков РС, Чхало НИ et al. Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал. In Нанофизика и наноэлектроника : Труды XXIV Международного симпозиума. В 2 т.. Vol. 2. Нижний Новгород: Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского. 2020. p. 851-852

Author

Гайсин, Айдар Уралович ; Сахоненков, Сергей Сергеевич ; Касатиков, Сергей Алексеевич ; Конашук, Алексей Сергеевич ; Плешков, Роман Сергеевич ; Чхало, Николай Иванович ; Филатова, Елена Олеговна. / Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал. Нанофизика и наноэлектроника : Труды XXIV Международного симпозиума. В 2 т.. Vol. 2 Нижний Новгород : Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского, 2020. pp. 851-852

BibTeX

@inproceedings{c690cb7066d94a218b515a3d6f6942f8,
title = "Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал",
abstract = "В работе представлен ранее развитый нами подход, адаптированный для изучения протяженности межслоевых областей вмногослойных рентгеновских зеркалах с использованием рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии высоких энергий. В этом подходе при установлении толщин мы используем понятие эффективной длины затухания фотоэлектронов L (EAL). Данный подход применен для изучения формирования интерфейсов в многослойном рентгеновском зеркале Si/[Mo/Si]50. Установлено образование силицида молибдена разной толщины в зависимости от порядка следования слоев Mo и Si. Показано, что увеличение числа периодов зеркала приводит к уменьшению протяженности интерфейса. Кроме того, в работе рассмотрено влияние барьерных слоев Be и B4C на состав и протяженность межслоевой области.",
author = "Гайсин, {Айдар Уралович} and Сахоненков, {Сергей Сергеевич} and Касатиков, {Сергей Алексеевич} and Конашук, {Алексей Сергеевич} and Плешков, {Роман Сергеевич} and Чхало, {Николай Иванович} and Филатова, {Елена Олеговна}",
year = "2020",
language = "русский",
isbn = "978-5-91326-587-6",
volume = "2",
pages = "851--852",
booktitle = "Нанофизика и наноэлектроника",
publisher = "Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского",
address = "Российская Федерация",
note = "XXIV Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника» ; Conference date: 10-03-2020 Through 13-03-2020",

}

RIS

TY - GEN

T1 - Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал

AU - Гайсин, Айдар Уралович

AU - Сахоненков, Сергей Сергеевич

AU - Касатиков, Сергей Алексеевич

AU - Конашук, Алексей Сергеевич

AU - Плешков, Роман Сергеевич

AU - Чхало, Николай Иванович

AU - Филатова, Елена Олеговна

PY - 2020

Y1 - 2020

N2 - В работе представлен ранее развитый нами подход, адаптированный для изучения протяженности межслоевых областей вмногослойных рентгеновских зеркалах с использованием рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии высоких энергий. В этом подходе при установлении толщин мы используем понятие эффективной длины затухания фотоэлектронов L (EAL). Данный подход применен для изучения формирования интерфейсов в многослойном рентгеновском зеркале Si/[Mo/Si]50. Установлено образование силицида молибдена разной толщины в зависимости от порядка следования слоев Mo и Si. Показано, что увеличение числа периодов зеркала приводит к уменьшению протяженности интерфейса. Кроме того, в работе рассмотрено влияние барьерных слоев Be и B4C на состав и протяженность межслоевой области.

AB - В работе представлен ранее развитый нами подход, адаптированный для изучения протяженности межслоевых областей вмногослойных рентгеновских зеркалах с использованием рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии высоких энергий. В этом подходе при установлении толщин мы используем понятие эффективной длины затухания фотоэлектронов L (EAL). Данный подход применен для изучения формирования интерфейсов в многослойном рентгеновском зеркале Si/[Mo/Si]50. Установлено образование силицида молибдена разной толщины в зависимости от порядка следования слоев Mo и Si. Показано, что увеличение числа периодов зеркала приводит к уменьшению протяженности интерфейса. Кроме того, в работе рассмотрено влияние барьерных слоев Be и B4C на состав и протяженность межслоевой области.

UR - http://nanoplatform.by/rss/1249-xxiv-mezhdunarodnyj-simpozium-nanofizika-i-nanoelektronika.html

M3 - статья в сборнике материалов конференции

SN - 978-5-91326-587-6

VL - 2

SP - 851

EP - 852

BT - Нанофизика и наноэлектроника

PB - Издательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского

CY - Нижний Новгород

T2 - XXIV Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника»

Y2 - 10 March 2020 through 13 March 2020

ER -

ID: 62361702