Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
Сравнительное исследование парощелочных кювет с алкановым, алкеновым и нонадецилбензеновым антирелаксационным покрытием стенок. / Балабас, М.В.; Третьяк, О.Ю.
In: КВАНТОВАЯ ЭЛЕКТРОНИКА, Vol. 43, No. 12, 2013, p. 1175-1178.Research output: Contribution to journal › Article › peer-review
}
TY - JOUR
T1 - Сравнительное исследование парощелочных кювет с алкановым, алкеновым и нонадецилбензеновым антирелаксационным покрытием стенок
AU - Балабас, М.В.
AU - Третьяк, О.Ю.
PY - 2013
Y1 - 2013
N2 - Впервые для цезиевой кюветы с алкеновым антирелаксационным покрытием и рубидиевой кюветы с нонадецилбензеновым антирелаксационным покрытием внутренних стенок экспериментально исследована зависимость как продольного, так и поперечного времён релаксации магнитной поляризации основного состояния паров атомов щелочного металла от температуры покрытия. Представлено сравнение этих времен релаксации с временами релаксации для цезиевой кювет с алкановым покрытием стенок. Найдено, что в исследованном температурном диапазоне (294°K <Tv <340°K) время поперечной релаксации уменьшается с ростом температуры алкенового и нонадецилбензенового покрытия. Для алканового покрытия явно такой зависимости не обнаружено. Время продольной релаксации начинает уменьшаться во всех случаях при переходе через некоторую критическую температуру материала покрытия. Установлено, что структура ненасыщенного радикала в молекуле материала покрытия сильно влияет на его антирелаксационные свойства.
AB - Впервые для цезиевой кюветы с алкеновым антирелаксационным покрытием и рубидиевой кюветы с нонадецилбензеновым антирелаксационным покрытием внутренних стенок экспериментально исследована зависимость как продольного, так и поперечного времён релаксации магнитной поляризации основного состояния паров атомов щелочного металла от температуры покрытия. Представлено сравнение этих времен релаксации с временами релаксации для цезиевой кювет с алкановым покрытием стенок. Найдено, что в исследованном температурном диапазоне (294°K <Tv <340°K) время поперечной релаксации уменьшается с ростом температуры алкенового и нонадецилбензенового покрытия. Для алканового покрытия явно такой зависимости не обнаружено. Время продольной релаксации начинает уменьшаться во всех случаях при переходе через некоторую критическую температуру материала покрытия. Установлено, что структура ненасыщенного радикала в молекуле материала покрытия сильно влияет на его антирелаксационные свойства.
KW - антирелаксационное покрытие
KW - пары атомов щелочных металлов
KW - время релаксации
M3 - статья
VL - 43
SP - 1175
EP - 1178
JO - КВАНТОВАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
JF - КВАНТОВАЯ ЭЛЕКТРОНИКА
SN - 0368-7147
IS - 12
ER -
ID: 5670500