Изобретение относится к плазменной технике, а именно к управлению плазмой разряда, и может быть применено для получения сильно неравновесной плазмы с управляемыми характеристиками. Цель изобретения - получение неравновесной плазмы с высокой концентрацией возбужденных частиц при стабильных условиях воспроизводимости параметров неравновесности. Неравновесную плазменную среду получают путем пропускания разрядного тока через инертный газ при приложении к нему импульсного электрического поля. Длительность импульса напряжения устанавливают расчетным путем до момента начала пробоя в газе, который контролируют по величине разрядного тока, и на фазе начала резкого роста тока и одновременно резкого спада амплитуды импульса напряжения производят искажение заднего фронта импульса напряжения, вводя активное сопротивление в анодную цепь разрядной трубки, чем задают нелинейную скорость изменения заднего фронта импульса напряжения. Это приводит к изменению скорости нарастания концентрации электронов, что позволяет менять время существования сильно неравновесной плазмы до десятков микросекунд. Величину приведенного электрического поля выбирают в пределах (8 - 25) х 10- 1 7 В/см. Способ позволяет достичь неравновесности плазмы Nm/Nlв пределах 10 - 100 и регулировать длительность существования полученной среды в пределах четырех порядков (здесь Nm, Nl- концентрация возбужденных атомов и электронов соответственно). Для стабилизации разряда дополнительно прикладывают фоновое электрическое поле. 1 з. п. ф-лы. 3 ил., 1 табл.