Growth mechanism of nanodimensional vanadium dioxide on silicon surface obtained by ML-ALD method

Результат исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьярецензирование

12 Цитирования (Scopus)
Язык оригиналане определен
Страницы (с-по)184-188
ЖурналReviews on Advanced Materials Science
Том27
Номер выпуска2
СостояниеОпубликовано - 2011

Цитировать