Area-Selective Growth of HfS2 Thin Films via Atomic Layer Deposition at Low Temperature

Yuanyuan Cao, Tobias Wähler, Hyoungwon Park, Johannes Will, Annemarie Prihoda, Narine Moses Badlyan, Lukas Fromm, Tadahiro Yokosawa, Bingzhe Wang, Dirk M. Guldi, Andreas Görling, Janina Maultzsch, Tobias Unruh, Erdmann Spiecker, Marcus Halik, Jörg Libuda, Julien Bachmann

Результат исследований: Научные публикации в периодических изданияхстатьярецензирование

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Area-Selective Growth of HfS<sub>2</sub> Thin Films via Atomic Layer Deposition at Low Temperature». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Технические дисциплины и материаловедение