Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал

Результат исследований: Публикации в книгах, отчётах, сборниках, трудах конференцийстатья в сборнике материалов конференциинаучнаярецензирование

Аннотация

В работе представлен ранее развитый нами подход, адаптированный для изучения протяженности межслоевых областей в
многослойных рентгеновских зеркалах с использованием рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии высоких энергий. В этом подходе при установлении толщин мы используем понятие эффективной длины затухания фотоэлектронов L (EAL). Данный подход применен для изучения формирования интерфейсов в многослойном рентгеновском зеркале Si/[Mo/Si]50. Установлено образование силицида молибдена разной толщины в зависимости от порядка следования слоев Mo и Si. Показано, что увеличение числа периодов зеркала приводит к уменьшению протяженности интерфейса. Кроме того, в работе рассмотрено влияние барьерных слоев Be и B4C на состав и протяженность межслоевой области.
Язык оригиналарусский
Название основной публикацииНанофизика и наноэлектроника
Подзаголовок основной публикацииТруды XXIV Международного симпозиума. В 2 т.
Место публикацииНижний Новгород
ИздательИздательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского
Страницы851-852
Том2
ISBN (печатное издание)978-5-91326-587-6
СостояниеОпубликовано - 2020
СобытиеXXIV Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника» - Нижний Новгород, Российская Федерация
Продолжительность: 10 мар 202013 мар 2020

конференция

конференцияXXIV Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника»
СтранаРоссийская Федерация
ГородНижний Новгород
Период10/03/2013/03/20

Цитировать