Хольце Рудольф Генрих

Профессор

  • Источник данных о цитировании публикаций, внесённых в Pure: Scopus
  • Рассчитывается на основе количества публикаций, внесённых в Pure, и цитирований из Scopus
20122021

Результат исследований по году

Если Вы внесли какие-либо изменения в Pure, они скоро будут показаны здесь.

Сотрудничество

Dubal D.P.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wu Y.P.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Lokhande C.D.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Gund G.S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wu Y

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Channu V.S.R.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang X.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Rambabu B.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Gomez-Romero P.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wu Yuping

  • Nanjing University of Science and Technology
  • New Energy and Materials Laboratory (NEML)
  • Fudan University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chang Z.

  • University of Central Florida

Внешняя персона: Внешнее лицо

Bilal S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Shah A.-U.-H.A.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang F.X.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Liu Y.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wu X.L.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова
  • GSI Helmholtz Centre for Heavy Ion Research GmbH
  • Institute of Modern Physics, Chinese Academy of Sciences

Внешняя персона: Внешнее лицо

Xiao S.Y.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhu Y.S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Qu Qunting

  • Soochow University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Roscher Jessica

  • Хемницкий технический университет

Внешняя персона: Внешнее лицо

Mahboubi F.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wen Z.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Mohajerzadeh S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Gao Suning

  • Хемницкий технический университет

Внешняя персона: Внешнее лицо

Saghafi M.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chodankar N.R.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Ge Yuru

  • Хемницкий технический университет

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yang Y.Q.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Fu Lijun

  • Nanjing University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Park C.-J.

  • University of Alaska Fairbanks

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yang Liangtao

  • Университет имени Гумбольдтов в Берлине
  • Йенский университет имени Фридриха Шиллера

Внешняя персона: Внешнее лицо

Younis A.A.

Внешняя персона: Внешнее лицо

El-Sabbah M.M.B.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Li Z.

  • University of California Berkeley
  • Shanghai Jiao Tong University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Xie Xuan

  • Northeastern University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Grey C.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Xie J

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова
  • Центр по окружающей среде и дистанционному зондированию имени Нансена

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chao Ema E-Y

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zheng N.

  • University of Arkansas - Fayetteville

Внешняя персона: Внешнее лицо

Stucky G.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Cronin L.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hou Y.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Kalluru R.R.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Kim W.B.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wolfart F.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhu Y.

  • Institute of Genetics and Developmental Biology, Chinese Academy of Sciences
  • Central China Normal University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Ravichandran D.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Jadhav H.S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Caban-Huertas Z.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Mount Adam

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Shao Jie

  • Soochow University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Maier J.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова
  • Max Planck Institute for Solid State Research

Внешняя персона: Внешнее лицо

Pan F.

  • University of Southern California

Внешняя персона: Внешнее лицо

Łuczak T.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yang S.

  • University of Bergen

Внешняя персона: Внешнее лицо

Kim Y.

  • Ulsan National Institute of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hu C.L.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Deng D.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Kim J.G.

  • Pohang University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Shi Y.

  • Medical College of Wisconsin

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhang B.-H.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhong Y.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Vidotti M.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yang Y.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова
  • University of Florida

Внешняя персона: Внешнее лицо

Kumari K.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Seshadri R.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Bełtowska-Brzezinska M.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yuan Xinhai

  • Nanjing University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Derhachov M.

  • Oles Honchar Dnipro National University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yu F.

  • Baylor College of Medicine

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang Jing

  • Nanjing University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Xuan W.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Tang W.

  • Guangxi Medical University
  • Fudan University
  • Shanghai Academy of Spaceflight Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Lin R.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Huang Qinghong

  • Nanjing University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hu C.

  • Université de Strasbourg

Внешняя персона: Внешнее лицо

Lin C.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Liu Zaichun

  • Nanjing University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang G.

  • Shanghai Astronomical Observatory, Chinese Academy of Sciences
  • Институт физики атмосферы Китайской Академии Наук

Внешняя персона: Внешнее лицо

Liao Y.-F.

  • Institute of Cellular and Organismic Biology, Academia Sinica

Внешняя персона: Внешнее лицо

Bai X.-Y.

  • Chinese PLA General Hospital
  • GSI Helmholtz Centre for Heavy Ion Research GmbH
  • Shanghai Academy of Spaceflight Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hossain Masud

  • Nanjing University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chen J.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Qu Q.T.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chowdhury A.-N.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Schlücker S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wu Yuping

  • Nanjing University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Ensinger W.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Markovic N.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhu Y. S.

  • New Energy and Materials Laboratory (NEML)
  • Fudan University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yu M.

  • York University
  • Университет Фошаня

Внешняя персона: Внешнее лицо

Dannenberg F.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Liu Yu

  • Хемницкий технический университет

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chowdhury D.A.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hong X.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Jiang H.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhang L.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Griffin J.M.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhang D.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Mo J.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Rodriguez R.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Sankapal B.R.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang Faxing

  • Nanjing University of Science and Technology
  • Fudan University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Arjomandi J.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hoque M.I.U.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Sultanbayeva G.Sh.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Liu P.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zuo Linqing

  • Nanjing University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Xiong S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Li R

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова
  • Ланьчжоуский политехнический университет

Внешняя персона: Внешнее лицо

Stejskal J.

  • Institute of Macromolecular Chemistry, Academy of Sciences of the Czech Republic

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chang Zheng

  • Fudan University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Sedenkova I.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Bobba R.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Kanno R.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Fathi M.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wiek A.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Jussipbekov U.Z.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hassan N.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Shan X.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Qi Z.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Huang K.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Kulal P.M.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhang K.

  • Institute of Physics Chinese Academy of Sciences
  • Shandong University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chen Y.

  • Beijing University of Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hu J.

  • Beijing Genomics Institute (BGI)-Shenzhen

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wen Z.B.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Gao X.W.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Brynza M.

  • Oles Honchar Dnipro National University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Ma Fuxiang

  • Nanjing University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhu K.

  • Shanghai Academy of Spaceflight Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zheng H.

  • Beijing Genomics Institute (BGI)-Shenzhen

Внешняя персона: Внешнее лицо

Mai L.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Lee H.-W.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Feng T.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Dzhagan V.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Reisner E.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Han W

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Dighe A.B.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Azam M.S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Liu Dan

  • Institute of Metal Research Chinese Academy of Sciences

Внешняя персона: Внешнее лицо

Stelmach J.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Du X.

Внешняя персона: Внешнее лицо

van Ree Teunis

  • Университет Венды

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chernyakova R.M.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Reddy Channu V.S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Liu Z.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова
  • Institute of Modern Physics, Chinese Academy of Sciences

Внешняя персона: Внешнее лицо

Sun X.

  • Central China Normal University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang Xiaowei

  • University of Central Florida
  • National University of Defense Technology
  • Fudan University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhu Yusong

  • Nanjing University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang X.W.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hutchings G.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhu B.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang Z.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова
  • Paul Scherrer Institute

Внешняя персона: Внешнее лицо

Ye H.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang X.J.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Liu Yu

Внешняя персона: Внешнее лицо

Vannier R.-N.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Gul S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhang H.P.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Younadam N.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Abu Sal B.

  • Tafila Technical University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Li H.

  • Beijing Genomics Institute (BGI)-Shenzhen

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhou L.W.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chin W.S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Fu Z.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yue Y.B.

  • Shanghai Academy of Spaceflight Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yu X.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Adelhelm Philipp

  • Йенский университет имени Фридриха Шиллера
  • Университет имени Гумбольдтов в Берлине

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yuan X.

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hu X.

  • China Agricultural University
  • Королевский технологический институт

Внешняя персона: Внешнее лицо

Bron M.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Fu G.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chang R.C.-C.

  • University of Hong Kong

Внешняя персона: Внешнее лицо

Jacob T.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Gómez-Romero P.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Xiong L

  • Санкт-Петербургское отделение Математического института им. В. А. Стеклова

Внешняя персона: Внешнее лицо

Farooq S.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Qu Q.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Chen Yuhui

  • Nanjing University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Frei H.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Hou Y. Y.

  • New Energy and Materials Laboratory (NEML)
  • Fudan University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Moiseienko V.

  • Oles Honchar Dnipro National University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Dubal D.P.

Внешняя персона: Внешнее лицо

Wang X. J.

  • New Energy and Materials Laboratory (NEML)
  • Fudan University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Sun H.

  • New Energy and Materials Laboratory (NEML)
  • Fudan University

Внешняя персона: Внешнее лицо

Yu Nengfei

  • Nanjing University of Science and Technology

Внешняя персона: Внешнее лицо

Zhang Z.

  • Central China Normal University
  • Institut de Physique Nucléaire Orsay
  • Argonne National Laboratory
  • CNRS - National Institute of Nuclear & Particle Physics (IN2P3)
  • Политехнический университет Бари
  • Nagasaki Institute of Applied Science

Внешняя персона: Внешнее лицо

Mao B.

Внешняя персона: Внешнее лицо