З.А. Мандрыкина, С.С. Сахоненков, А.У. Гайсин, Е.О. Филатова
Санкт-Петербургский государственный университет, кафедра
электроники твёрдого тела, zpleskovm@gmail.com
В настоящее время интерес к многослойным зеркалам (МЗ) на основе Mo/Be снова возрастает в связи возможностью использования более короткой длины волны, что чрезвычайно востребовано в ультрафиолетовой литографии. Для системы Mo/Be диапазон длин волн: λ=11,1−12,4 нм, что делает эти зеркала перспективными в
космических телескопах для солнечной астрономии. Преимуществом зеркала Mo/Be по сравнению с системой Mo/Si также является более высокое спектральное разрешение на длине волны λ=13,2 нм. [1]
В данной работе были изучены многослойные структуры на основе Mo/Be. Изучалось изменение пикового коэффициента отражения в зависимости от положения слоя B 4 C (на слое Mo или Be). Измерения проводились в центре синхротронного излечения BESSY-II
на оптическом канале Optics Beamline. Измерения показали, что положение слоя B 4 C на плёнке Be приводит к увеличению пикового коэффициента отражения (70 % по сравнению с 68 % для зеркала Mo/Be). Нанесение же слоя B 4 C на слой Mo понижает пиковый коэффициент отражения (62 %).
Также было проведено исследование межфазовой границы в зеркале Mo/Be на лабораторной станции с алюминиевым анодом (Al Kα=1486.6 eV), с целью установления её протяженности и строения. Изучались прямые и инверсные системы с разным количеством периодов. Было установлено образование бериллидов различной стехиометрии на указанных границах: формирование MoBe α , 4.0 < α < 5.0 на границе Be-на-Mo и MoBe β , 1.0 < β < 1.6 на границе Mo-на-Be.

Литература:

1.Kasatikov, Filatova, Sakhonenkov, Gaisin, Polkovnikov, Smertin “Study of Interfaces of Mo/Be Multilayer Mirrors Using X ray Photoelectron Spectroscopy”, The journal of physical chemistry, 2019