Адаптация подхода восстановления толщин слоев на основе РФЭС высоких энергий к изучению протяженности и строения межслоевых областей многослойных рентгеновских зеркал

Research output

Abstract

В работе представлен ранее развитый нами подход, адаптированный для изучения протяженности межслоевых областей в
многослойных рентгеновских зеркалах с использованием рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии высоких энергий. В этом подходе при установлении толщин мы используем понятие эффективной длины затухания фотоэлектронов L (EAL). Данный подход применен для изучения формирования интерфейсов в многослойном рентгеновском зеркале Si/[Mo/Si]50. Установлено образование силицида молибдена разной толщины в зависимости от порядка следования слоев Mo и Si. Показано, что увеличение числа периодов зеркала приводит к уменьшению протяженности интерфейса. Кроме того, в работе рассмотрено влияние барьерных слоев Be и B4C на состав и протяженность межслоевой области.
Original languageRussian
Title of host publicationНанофизика и наноэлектроника
Subtitle of host publicationТруды XXIV Международного симпозиума. В 2 т.
Place of PublicationНижний Новгород
PublisherИздательство Нижегородского государственного университета им. Н.И. Лобачевского
Pages851-852
Volume2
ISBN (Print)978-5-91326-587-6
Publication statusPublished - 2020
EventXXIV Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника» - Нижний Новгород
Duration: 10 Mar 202013 Mar 2020

Conference

ConferenceXXIV Международный симпозиум «Нанофизика и наноэлектроника»
CountryRussian Federation
CityНижний Новгород
Period10/03/2013/03/20

Scopus subject areas

  • Physics and Astronomy(all)

Cite this